日本半導體工藝臭氧水生產設備
廣泛的適應范圍，從濃度到 100ppm，從流速到 60L/min。 可根據各種要求進行定制。
大流量、高濃度的臭氧水生成裝置。 歡迎定制。 適合清洗、電阻剝離應用，也是單片式清洗裝置的理想選擇。
清潔臭氧水，無金屬污染
我們不使用金屬作為液體接觸部分。 可生產出適合半導體清洗的清潔無金屬臭氧水。
滿足廣泛的需求
臭氧水濃度高達 100 ppm，流量從 1L/min 到 60L/min 不等。 我們根據半導體工藝中對臭氧水的各種需求定制設備。
歡迎定制
可根據使用流程和設備進行定制。
主要用途和行業
半導體清洗
液晶制造工藝
太陽能電池清洗
| 型號（示例） | OWF-C45L30P | OWF-C5L30P |
|---|---|---|
| 臭氧水濃度 （臭氧水生成能力） | 高達 100 ppm | 高達 60 ppm |
| 臭氧水流量 （臭氧水生成能力） | 高達 60L/min | 高達 7L/min |
| 臭氧水排放壓力 （臭氧水生成能力） | 高達 0.15MPa | 高達 0.20MPa |
| 原料氧條件 | 壓力0.3MPa，純度99.5%以上（CO2或N2調整） | |
| 原料水條件 | 超純水、純水、市水，0.25MPa，25°C以下 | |
| 接觸臭氧材料 | 石英玻璃，PFA，PTFE，紅寶石 | |
| 臭氧生成方法 | 無聲放電法 | |
| 放電管冷卻系統 | 水冷（內部散熱器水冷） | |
| 外形尺寸 | 900W×929D×1881H （不包括突起） | 611W×590D×1317H （不包括突起） |
| 電源 | AC100V±10%,50/60Hz | |
| 功耗 | 5kW | 1kW |
| 外部輸入/輸出 | 是 | |
| 使用環境 | 氣溫5~40°C，濕度90%R.H.以下 室內，無結露，塵埃少 | |
